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| HPR30 真空工艺过程气体分析仪 |
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货号：HC01001230
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价格咨询：400-034-1688
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 产品简介： |
产品名称：HPR30 真空工艺过程气体分析仪
产品分类：6. 气体质谱 |
| 详细描述： |
技术参数：
HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser)，适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。
应用：
? CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD
? 真空涂覆/ 等离子刻蚀
? 沉积溅射
? 污染物研究
? 基本压力辨别
? 泄漏探测/ 实质泄漏/脱附分析
? 除气/烘烤/泵效能
? 反应室/过程气体污染物
特点：
? 简洁的桌上型，移动推车或控制台架结构
? Direct re-entrant流孔板，差式泵，以达到最适宜的灵敏度
? 连续取样从10-4mbar至1mbar.
? 高灵敏度（最优可至5ppb），质量数可选至1000amu
? 软离子化技术，分析复杂有机物，或表观MS研究
? 稳定性好(24h之上，峰高变化小于±0.5%)
? MASsoft软件控制，或由局域网进行多个系统控制
? 气动阀自动控制；出现电力不足或压力过大等不安全状况时可启用手动隔离装置
? 自动、同时数据取得、分析，实时显示、报警
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