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Genius恒温金属浴有两种机型: 单槽或双槽设计,可随意从广泛的铝块类型中选择搭配使用。它适合于多种应用,包括限制性内切酶反应,DNA变性,尿素氮测定,凝胶熔*,凝血试验,杂交和热启动热循环反应。微处理器控制器提供方便的温度选择,快速加热和*佳的稳定性。此产品温度设定的增量温度范围为0.1℃,温度控制范围适用于从室温+5℃到150℃。另有选配的温度传感器可直接放置在样品中提供*准的温度侦测和控制。定时器可设置1-999分钟或持续*行。Genius恒温金属浴系列也可以用作小型水浴槽使用。可选配功能控制软件进行PC数据记录。
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with beads | with water | with block |
MS06_Genius Dry Bath Incubator MD-01 / MD-02 * Marketing video