1200℃预加热滑动双温区 PECVD-Y12IIH-3Z/G（PECVD-Y12II6H-3Z/G）

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产品用途    PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。 PECVD系统配置 ?1200度开启式双温区真空管式炉。 ?滑动系统分为手动，电动滑动，并配置管内测温系统。 ?预加热开启式管式电炉。 ?等离子射频电源。 ?多路质量流量控制系统。 ?真空系统（可选配中真空或者高真空）。 产品特点      生长温度低、沉积速率快、成膜质量好、适用范围广、设备简单。

PECVD系统-1200℃预加热滑动双温区

系统名称	1200℃预加热滑动双温区PECVD系统
系统型号	PECVD-Y12IIH-3Z/G		PECVD-Y12II6H-3Z/G
*高温区	1200℃
加热区长度	420mm		610mm
恒温区长度	280mm		400mm
温区	双温区		双温区
石英管管径	Φ50/Φ60/Φ80		Φ80/Φ100
额定功率	3.2Kw		4.8Kw
额定电压	220V		220V
滑动方式	自动滑动/手动滑动
温度控制	国产程序控温系统50段程序控温
控制精度	± 1℃
炉管*高工作温度	＜ 1200℃
气路法兰	本实用新型在密封法兰与管件链接的地方采用多环密封技术，在密封法兰与管外壁间形成了密封，在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效，该密封法兰的安装只需在第一次使用设备的时候安装
预加热*高温度	1200℃
预加热加热区长度	300mm
预加热恒温区长度	160mm
额定功率	1.2KW
额定电压	220V
温度控制	国产程序控温系统50段程序控温
控制精度	± 1℃
气体控制方式	质量流量计
气路数量	3路（可根据具体需要选配气路数量）
流量范围	0-500sccm（标准毫升/分，可选配）氮气标定
精度	± 1%F.S
响应时间	≤ 4sec
工作温度	5-45℃
工作压力	进气压力0.05-0.3Mpa（表压力）
系统连接方式	采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪
规格	中真空			高真空
系统真空范围	10pa-100pa			1×10-3pa-1×10-1pa
真空泵	双极机械泵理论极限真空度3x10-3pa，抽气速率4L/S，出气口配有油污过滤器，额定电压200V， 功率0.55Kw			真空分子泵理论极限真空度5x10-6pa，抽气 速率1600L/S，额定电压200V，功率2Kw
信号频率	13.56MHz ± 005%
功率输出范围	5W-500W
*大反射功率	200W
射频输出接口	50Ω，N-type，temale
功率稳定度	± 0.1%
谐波分量	≤ -50dbc
供电电压	单相交流（187V-253V）频率50/60HZ
整机功率	≥ 70%
屏幕显示	正方向功率，匹配器电容位置，偏置电压值
整机尺寸	483*500*88mm
炉体外形尺寸	340×580×555mm	480×770×605mm
系统外形尺寸	530*2310*750mm	530*2310*750mm（不含高真空）
系统总重量	300Kg	380Kg

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