快速摄谱式 自动变角度光谱椭偏仪 ES01

参考信息

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性能特点如下：ES01是针对科研和工业环境中薄膜测量推出的**度全自动光谱椭偏仪，系列仪器的波长范围覆盖紫外、可见到红外。
ES01系列光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，厚度）和物理参数（如，折射率n、消光系数k），也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。
ES01系列光谱椭偏仪适合于对样品进行实时和非实时检测。

*特点：原子层量*的检测灵敏度
*际**的采样方法、*稳定的核心器件、*质量的设计和制造工艺实现并保证了能够测量原子层量*的纳米薄膜，膜厚*度达到0.05nm。
秒*的快速测量
快速椭偏采样方法、*信噪比的信号探测、自动*的测量软件，在保证**度和准确度的同时，10秒内快速完成*次全光谱椭偏测量。
*键式仪器操作
对于常规操作，只需鼠标点击*个按钮即可完成复杂的测量、建模、拟合和分析过程，丰富的模型库和材料库也同时方便了用户的**操作需求。

*应用：ES01系列尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发。
ES01系列多种光谱范围可满足不同应用场合。比如：
ES01V适合于测量电介质材料、无定形半导体、聚合物等的实时和非实时检测。
ES01U适合于很大范围的材料种类，包括对介质材料、聚合物、半导体、金属等的实时和非实时检测，光谱范围覆盖半导体的临界点，这对于测量和控制合成的半导体合金成分非常有用。并且适合于较大的膜厚范围（从次纳米量*到10微米左右）。
ES01系列可用于测量光面基底上的单层和多层纳米薄膜的厚度、折射率n及消光系数k。应用*域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、*学、电*学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。典型应用如：
半导体：如：介电薄膜、金属薄膜、*分子、光刻胶、硅、PZT膜，激光二*管GaN和AlGaN、透明的电子器件等）；
平板显示：TFT、OLED、等离子显示板、柔性显示板等；
功能性涂料：增透型、自清洁型、电致变色型、镜面性光学涂层，以及*分子、油类、Al2O3表面镀层和处理等；
生物和*学工程：有机薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子层、薄膜**、表面改性处理、液体等。
ES01系列也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。应用*域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。典型应用包括：
玻璃新品研发和质量控制等。

技术参数：光谱范围 ES01V：370-1000nm
ES01U：245-1000nm
光谱分辨率 1.5nm
单次测量时间 典型10s,取决于测量模式
准确度 δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04° 
（透射模式测空气时）
膜厚测量重复性（1） 0.05nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
折射率*度（1） 1x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
入射角度 40°-90°自动**，重复性0.02°
光学结构 PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有**的准确度）
样品台尺寸 可放置样品尺寸：直径170 mm
样品方位调整 *度**范围：0-10mm
二维俯仰**：±4°
样品对准 光学自准直显微和望远对准系统
软件：多语言界面切换
预设项目供快捷操作使用
**的权限管理模式（管理员、操作员）
方便的材料数据库以及多种色散模型库
丰富的模型数据库
选配件 自动扫描样品台
聚焦透镜

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