溅射蒸碳仪 ETD-2000C

参考信息

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性能特点如下：ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，*简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。
满足电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备和非导体材料实验电极制作。
在 ETD-2000/3000 离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备。

技术参数：*配置参数如下：仪器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm（D×H）
靶（上部电极）： 50mm×0.1mm（D×H）
样品台： 50mm (D)
操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
工作电压： 0-1600V (DC)可调
溅射电流： 0-50mA
溅射定时： 1-9999S
蒸碳电流 0-10A(AC)
真空泵： 4升两级机械旋转泵（极限真空2×10-2mbar）

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