自动椭圆偏振测厚仪 EX2

参考信息

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性能特点如下：原EM22自动椭圆偏振测厚仪升级为EX2自动椭圆偏振测厚仪
EX2自动椭圆偏振测厚仪是基于消光法（或称“零椭偏”）椭偏测量原理，针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款自动测量型教学仪器。
EX2仪器适用于纳米薄膜的厚度测量，以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。
EX2仪器还可用于同时测量块状材料（如，金属、半导体、介质）的折射率n和消光系数k。

*特点：经典消光法椭偏测量原理：
仪器采用消光法椭偏测量原理，易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。
方便安全的样品水平放置方式：
采用水平放置样品的方式，方便样品的取放。
紧凑的一体化结构：
集成一体化设计，简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连，方便使用。
高准确性的激光光源：
采用激光作为探测光波，测量波长准确度高。
丰富实用的样品测量功能：
可测量纳米薄膜的膜厚和折射率；块状材料的复折射率、样品反射率、样品透过率。
便捷的自动化操作：
仪器软件可自动完成样品测量，并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。
安全的用户使用权限管理：
软件中设置了用户使用权限（包括：管理员、操作者等模式），便于仪器管理和使用。
可扩展的仪器功能：
利用本仪器，可通过适当扩展，完成多项偏振测量实验，如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。

*应用：EX2适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量，也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。
EX2可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。

技术参数：仪器型号 EX2
测量方式 自动测量
样品放置方式 水平放置
光源 He-Ne激光器，波长632.8nm
膜厚测量重复性* 0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
膜厚范围 透明薄膜：1-4000nm
吸收薄膜则与材料性质相关
折射率范围 1.3 – 10
探测光束直径 Φ2-3mm
入射角度 30°-90°，精度0.05°
偏振器方位角读数范围 0-360°
偏振器步进角 0.014°
样品方位调整 Z轴高度调节：16mm
二维俯仰调节：±4°
允许样品尺寸 样品直径可达Φ160mm
配套软件：
用户权限设置
多种测量模式选择
多个测量项目选择
方便的数据分析、计算、输入输出
*大外形尺寸 约400*400*250mm
仪器重量（净重） 约20Kg
选配件 * 半导体激光器

注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。

*性能保证：ISO9001国际质量体系下的仪器质量保证
专业的椭偏测量原理课程 
专业的仪器使用培训

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